| 文章搜索： |
|
|
|
| 最新新闻： |
|
|
| 推荐新闻： |
|
|
免责声明：
本新闻内容部分来自互连网，如果该信息侵犯了您的权益，请联系我们，我们会立即作出相应的处理。
在对信息的正确性和准确性进行考证之前，山东化学化工科技网对在网站上刊登之所有信息不声明或保证其内容之正确性或可靠性；您于此接受并承认信赖任何信息所生之风险应自行承担。山东化学化工网有权但无此义务，改善或更正所刊登信息任何部分之错误或疏失。 |
|
|
|
| 您现在的位置：首页>>化工专利>>专利授权公告>>正文 |
|
|
|
| |
| 制备高纯度磷化氢和其它气体的方法和装置 |
|
| 来源： 作者： 加入时间：2008-5-7 14:28:07 阅读次数： |
|
|
制备高纯度磷化氢和其它气体的方法和装置 |
授权公告日：2008-03-12
分类号：C01B 25/06;H05B 6/50;A61L 2/00;A47J 37/08;C23C 16/00
申请号：99810169
申请日：1999-07-06
授权公告号：100374365
专利号：99810169
专利权人：电子转移技术公司
设计人：W.M.阿耶尔斯
文摘：
本发明描述了在半导体的生产和掺杂中所用的高纯度磷化氢气体或其它气体的生成的装置和方法。所述优选装置包括采用微波辐射来生成气体的设备、控制生成速率的设备（１０）、纯化产物气体的设备以及用稀释气体可控混合所述气体至所需输送组合物的设备。通过这些设备，生成直接导入用于制造和掺杂半导体的工艺过程的、具有足够纯度、合适压力以及所需体积的气体。 | |
| 相关文章： |
|
| [关闭] [打印] | |
| |
| |
